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京东方A赢得发明专利授权:“发光器件过甚制备法子、发光装配”
发布日期:2024-04-20 03:20    点击次数:91

本站讯息,笔据企查查数据泄漏京东方A(000725)新赢得一项发明专利授权,专利名为“发光器件过甚制备法子、发光装配”,专利恳求号为CN202210109375.6,授权日为2024年4月16日。

专利摘抄:发光器件过甚制备法子、发光装配。发光器件包括:外延层,建树在外延层归拢侧的至少一个器件电极,以及建树在器件电极背离外延层一侧的至少一个可剥离的测试电极;其中,测试电极与器件电极对应汇集,测试电极在外延层处所平面上的正投影面积大于对应汇集的器件电极在外延层处所平面上的正投影面积。由于测试电极与器件电极对应汇集,而况测试电极在外延层处所平面上的正投影面积大于器件电极在外延层处所平面上的正投影面积,因此不错笔据测试成立的需求设狡计大面积的测试电极,从而不错对单个发光器件的波长、亮度和电压等参数进行电性测试,益丰配资培植测试的准确性,裁减电性不良的发光器件发生漏检的概率。

本年以来京东方A新赢得专利授权1219个,较客岁同时加多了54.5%。趋附公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面参加了113.2亿元,同比增1.97%。

数据起首:企查查

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